Titan tolali kigizga platina qoplamasi tolali kigiz yuzasida platina qatlamini hosil qilish uchun keng tarqalgan jarayondir. Titan tolali kigizda platina qoplamasining bir necha usullari mavjud, jumladan, elektrokaplama, cho'tka bilan qoplash va püskürtme.
Har bir usulning o'ziga xos jarayoni, afzalliklari va kamchiliklari mavjud va tegishli usulni tanlash muayyan talablarga, byudjetga va mavjud resurslarga bog'liq.
Elektrokaplama metallni o'tkazuvchan substratga joylashtirishni o'z ichiga olgan usuldir. Titan tolali kigizga platina qoplamasi bo'lsa, kigiz katod sifatida ishlatiladi va platina tuzi eritmasidan olingan platina ionlari qaytariladi va namat yuzasiga yotqiziladi. Oqim zichligi, hammom tarkibi va qoplama vaqti kabi parametrlarni nazorat qilish orqali platina cho'kmasining miqdori va bir xilligini sozlash mumkin. Elektrokaplama titan tolali namatning butun yuzasida nisbatan qalin va bir tekis taqsimlangan platina qatlamini hosil qilish imkonini beradi. Biroq, bu usul maxsus uskunalar, elektrokaplama jarayonlari va chiqindi eritmalarni boshqarishni talab qiladi, bu esa uni yanada murakkab jarayonga aylantiradi.
Cho'tka bilan qoplash to'g'ridan-to'g'ri platina eritmasini yoki pastasini titan tolasi yuzasiga surtishni o'z ichiga oladi. Birinchidan, platina zarralarini o'z ichiga olgan suyuqlik yoki pasta tayyorlanadi, so'ngra cho'tka yoki purkagich yordamida namatga qo'llaniladi. Cho'tkasi qoplamasi yupqaroq platina qatlamini shakllantirishga imkon beradi va ma'lum joylarda lokalizatsiya qilish imkonini beradi. Ushbu usulning afzalligi uning soddaligidadir, chunki u murakkab uskunalar yoki jarayonlarni talab qilmaydi. Shu bilan birga, qoplamaning bir xilligi qoplama texnikasiga ta'sir qilishi mumkin va qoplamaning sifati va yopishqoqligi boshqa usullar bilan bo'lgani kabi optimal bo'lmasligi mumkin.
Sputtering - bu vakuum muhitida titanium tolasi yuzasiga platina atomlari yoki ionlarini cho'ktirishni o'z ichiga olgan jismoniy bug 'cho'kishi (PVD) usuli. Cho'kish jarayonida tolali namat platina nishoniga qarama-qarshi substrat sifatida joylashtiriladi. Cho'kish vaqti, quvvat va gaz bosimi kabi chayqalish parametrlarini nazorat qilish orqali titan tolali namatda bir xil platina yupqa plyonka hosil bo'lishi mumkin. Sputtering yuqori cho'kindi stavkalari va mukammal yopishish imkonini beradi, bu uni katta maydonda, bir xil cho'kma uchun mos qiladi. Biroq, püskürtme maxsus uskunalar, vakuum muhitini talab qiladi va boshqa usullarga nisbatan yuqori xarajatlarni talab qiladi.
Platina qoplamali titan tolali kigiz keng ko'lamli ilovalarga ega. U kimyoviy sintez, atrof-muhitni muhofaza qilish va energiya sohalarida samarali katalizator sifatida keng qo'llaniladi. Bundan tashqari, platina bilan qoplangan titan tolali namat yonilg'i xujayralarining anod va katod katalitik qatlamlarida qo'llaniladi va ularning samaradorligi va barqarorligini oshiradi. Bundan tashqari, u gazlar va organik moddalarni aniqlash va o'lchash uchun elektrokimyoviy sensorlarda ishchi elektrod sifatida ishlatiladi. Bundan tashqari, akkumulyator materiallari va filtrlash/ajratish sohalarida platina bilan qoplangan titan tolali namat hal qiluvchi rol o'ynaydi. Tegishli platina qoplama usullarini tanlash va jarayonlarni optimallashtirish orqali titan tolali namatda bir xil va samarali platina qoplamalariga erishish mumkin, bu esa turli ilovalarda ishlash va samaradorlikni oshiradi.
