Titan qotishmalari Aerosoksepa, elektronika va boshqa yuqori samarali tarmoqlarda . tomonidan keng tarqalgan va boshqa yuqori samarali tarmoqlarda keng qo'llaniladi. Titanium substratlari va elektroplatlangan qoplamalar orasidagi kuchlanishni yaxshilash uchun . .
60-120 aşındırıcıcıcıcıcıcıcıcıcıcıcıtıcıcıtıcıcıcıcıcıcıcıcıcıtığı bilan 2. bilan mexanik xurmolarni elektr toki urishi mumkin, bu esa 2 . . . 2-chi HRC 40, Hold-TICL3 echimlarini oldini olish uchun, shuningdek, gidrogenlash va flutsiya kabi kimyoviy sirtni o'zgartirishning kimyoviy sirtini o'zgartirish kerakligini oldini olish uchun, shuningdek, gidrogenatsiya va floteksiyatsiyani oldini olish uchun, shuningdek, gidrogenratsiya, shuningdek, gidrogenratsiya va flentinatsiya usullari, masalan, vido-tic3 eritmalari. 28 MPa. Nacrăo-hF echimlari bilan flogi bo'shliqlar chuqurchalar bilan mexanik markazlashtirilgan holda mexanik markazlashgan Tif₃ / TiO₂ kompozit qatlamini yaratadi.
O'tkazib yuborish va qayta qurish natijasida metall o'tish qatlamlarini yanada kuchaytiradi . 5 n / mm dan 15 . dan 3 . dan yuqori darajadagi Zenskiy qatlamga, ya'ni 3 . N / mm² . Elektr tasmalarini, Nah₂po-Niso turlarini qo'llash, 45 MPA-ning kesik kuchini shakllantiradigan 2 mkm ni-p qatlamini tashkil etadi. Ushbu o'tish qatlami titan substrat va yakuniy qoplamani bartaraf etish, samarali vositachilar sifatida harakat qiladi.
Pallatib yuborish bilan bog'liq muomalalar . . . . .} . . {}}} 2 soat davomida 300 darajaga ko'tarilishni kuchaytiradi. Eng yuqori darajadagi ASTM D3359 darajasiga ko'tarilish . ASTM D3359 sinfiga ko'tarilish bu issiqlik jarayonlari substratning tarkibiy yaxlitligini buzmasdan atom darajasidagi obligatsiyalarni kuchaytiradi . .
Maxsus dasturlar uchun moslashtirilgan jarayon strategiyalari tavsiya etiladi . Elektr pullonining 1%% .} .} .} .} .} .} .} .} dan oshib ketishi, og'irlikni kamaytirish, kamaytirish xarajatlarini kamaytiradi Kuchli muhitga 30% . Chuqur muhitlardagi tarkibiy qismlar flitorlashtirish va flesh nikelni plitka qilish, korroziyalarni beshikka nisbatan yaxshilashlari kerak.
Atom qatlami (ALD) kabi rivojlanayotgan texnologiyalar (ALD), masalan, 200 mPodopikatsiya qilish va jarayon parametrlarini birlashtirish uchun .} yuqori samarali dasturlar uchun yangi imkoniyatlarni ochish, Muhandislar ma'lum bir operatsion talablarga mos keladigan yuqori darajadagi yopishqoq ko'rsatkichlarga erishishi, Titan qotishma tarkibiy qismlarini talab qiladigan muhitda .}
